ASML, el fabricante neerlandés que tiene el monopolio mundial de la litografía ultravioleta extrema (EUV), ha presentado un nuevo récord en su sistema de impresión de chips: ha conseguido crear estructuras de 8 nanómetros de ancho en una oblea de silicio en un solo paso. Son las estructuras más pequeñas jamás creadas en una sola exposición por un sistema comercial de litografía. Según ASML, los chips fabricados con este equipo podrán contener 2,9 veces más transistores que los producidos con la generación anterior de luz EUV. La noticia la cuenta Nature.
El sistema, que ASML llama High-NA EUV, es físicamente enorme: más grande que un autobús londinense de dos pisos. Funciona proyectando luz ultravioleta extrema sobre una «máscara» que refleja un patrón de luz hacia obleas de silicio recubiertas con productos químicos sensibles a la luz. Esos productos endurecen siguiendo el patrón. La oblea se graba químicamente y el proceso se repite muchas veces hasta crear todos los componentes del chip: transistores, las pistas microscópicas que los conectan y el resto del cableado. La novedad es que las ópticas de este sistema —espejos casi perfectos del tamaño que justifican el chasis— permiten proyectar el patrón con una precisión jamás alcanzada antes en producción comercial.
ASML ha enviado unas diez de estas máquinas a sus clientes, entre ellos Intel y SK hynix. Cada una cuesta alrededor de 400 millones de dólares. Estas empresas las usarán para crear su próxima generación de chips. Maarten Voncken, responsable de metrología en investigación de ASML, lo dice así en el artículo de Nature: «Las demandas que vemos son monumentales en cuanto a la cantidad de chips necesarios y el escalado requerido». El motor de esa demanda monumental es uno solo: el boom de la IA. Los centros de datos que entrenan modelos como GPT-5 o Gemini consumen cantidades absurdas de chips, y la presión sobre TSMC, Samsung e Intel para que entreguen más, más rápidos y más eficientes es insostenible con la generación anterior de litografía.
La Ley de Moore (la observación de Gordon Moore en 1965 según la cual el número de transistores en un chip se duplica aproximadamente cada dos años) no es una ley física, sino una predicción que se ha mantenido viva gracias al esfuerzo titánico de ingenieros y físicos. Pero llevamos años viendo que mantenerla cuesta cada vez más, justo cuando la IA crea una demanda explosiva. Cada nuevo nodo (5nm, 3nm, 2nm) requiere inversiones que solo TSMC, Samsung e Intel pueden permitirse. El High-NA EUV es el siguiente capítulo de esa carrera. Fuera de este entorno EUV, otras vías intentan empujar la frontera por caminos paralelos: los chips Blackwell de Nvidia ya se fabrican en suelo estadounidense en la planta de TSMC en Arizona usando procesos de 2, 3 y 4 nanómetros; y se investigan también transistores 2D basados en disulfuro de molibdeno como sustituto del silicio para nodos por debajo de los 1 nanómetro.
Mi valoración: el High-NA EUV no es solo una mejora incremental, es lo que va a decidir si Moore sigue siendo verdad en 2030. ASML tiene un monopolio absoluto en este segmento (no existe ningún otro fabricante en el mundo capaz de hacer estas máquinas), lo que le da un poder geopolítico enorme: la decisión de a quién venderle un High-NA EUV es, literalmente, una decisión sobre qué países o empresas pueden competir en la frontera de la IA. China lleva años intentando desarrollar su propia litografía EUV sin éxito. Mientras tanto, también hay rutas alternativas: por ejemplo, equipos como el de Johns Hopkins que están explorando una alternativa química a los resists tradicionales capaz de grabar detalles por debajo de 10 nanómetros con materiales metal-orgánicos. Pero ninguna está cerca de reemplazar a ASML hoy. La demanda de chips para IA va a seguir multiplicándose; la pregunta es si la oferta puede seguir el ritmo. La respuesta, por ahora, depende de unas diez máquinas con espejos casi perfectos del tamaño de un autobús londinense.
Preguntas frecuentes
¿Qué es la litografía High-NA EUV? Una técnica de fabricación de chips que usa luz ultravioleta extrema y ópticas de mayor apertura numérica para grabar patrones más pequeños en obleas de silicio. ¿Qué tamaño de transistor consigue? Estructuras de 8 nanómetros en un solo paso, las más pequeñas jamás creadas en una sola exposición por un sistema comercial. Permite chips con 2,9 veces más transistores que la generación anterior. ¿Quién la fabrica? ASML, una empresa neerlandesa con sede en Veldhoven. Tiene el monopolio mundial de litografía EUV. Cada máquina cuesta unos 400 millones de dólares y los primeros clientes son Intel y SK hynix.
☞ El artículo completo original de Natalia Polo lo puedes ver aquí
